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碳納米膜制備設備

更新時間：  2024-05-21

產品型號：  LFT1400C 800D802Z

產品報價：  

所  在  地：  合肥市新站區穎河路22號

產品特點：  碳納米膜制備設備如圖所示，由氣體質量流量計控制系統、液體注液系統、多段溫度可控多區生長系統、水冷卻系統、碳納米線或膜收集系統，紅外烘干系統等組成。

（聯系我時，請說明是在化工儀器網上看到的信息，謝謝?。?/div>
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產品概述

一、結構簡介


碳納米膜制備設備如圖所示，由氣體質量流量計控制系統、液體注液系統、多段溫度可控多區生長系統、水冷卻系統、碳納米線或膜收集系統，紅外烘干系統等組成。生長爐的最高溫度1400℃，并可在0-1400℃之間連續可調，垂直式分布熱場，三點控溫(三段長度平均分配)，設備頂部設有注液口、導流器。爐體采用雙層殼體結構并帶有風冷系統，保溫材料為加厚型，殼體表面溫度小于60℃。采用高純氧化鋁管作為爐膛材料，加熱元件為優質硅碳棒。本款碳納米管或膜CVD設備可以實現連續生長不間斷的特點。

碳納米膜制備設備

二、性能參數                                                                                                                                                                

型號

LFT1400C 800D802Z

額定功率

18KW

額定電壓

AC380V

最高溫度

1400℃

額定溫度

1300℃

推薦升溫速率

1400℃以下≤10℃/min

爐管尺寸

（可根據客戶要求訂制）

剛玉管Φ80× 1400mm

外型尺寸（長×深×高）

1680*700*2560mm

控溫精度

±1℃

極限真空度（選件）

1.0×10-3Pa（機械泵+分子泵）

加熱元件

硅碳棒

重量

230KG

客戶自配裝空氣開關

40A



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