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化學氣相沉積設備

更新時間:  2024-04-07

產品型號:  CVD

產品報價:  

所  在  地:  合肥市新站區穎河路22號

產品特點:  化學氣相沉積設備CVD1200C-II-SL 200D50-5Z 雙溫區滑軌式CVD系統由雙溫區滑軌爐、質子流量控制系統、真空系統三部分組成。雙溫區滑軌爐可移動并可實現快速升降溫;PLC控制5路質子流量器,能夠精確控制系統的供氣;真空泵可實現對管式爐快速抽真空。CVD(化學氣象沉積系統)常用于表面材料生長、沉積,是一款實驗室常用設備技術參數

(聯系我時,請說明是在化工儀器網上看到的信息,謝謝!)
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產品概述

化學氣相沉積設備技術參數

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

雙溫區滑軌爐LFT1200C-II 200D50-5Z

爐體結構

 該化學氣相沉積設備采用雙層殼體并帶有風冷系統,使其爐體表面溫度都小于55℃

 爐底安裝一對滑軌,可手動滑動,以便滿足特殊工藝的快速升降溫的求。

爐管尺寸

Φ50/60/80/100×1400mm(可提供特殊定制。)

功率

5kW

輸入電壓

220VAC 單相 50/60Hz

加熱元件

Cr27Al7MO2(摻鉬鐵鉻鋁合金)

zui高溫度

zui高溫度:1200℃ 

額定溫度:1100℃

升溫速率

 ≦10℃/min(推薦)

加熱區長度度

    化學氣相沉積設備兩個加熱區的長度都是200mm

    分別由獨立的溫控系統控制

恒溫區長

     100+100mm(±1℃)

     可獲得較長恒溫區間

控溫精度

     ±1℃

快速連接法蘭

     Φ50快結式不銹鋼真空法蘭

     打開法蘭直接卸下卡箍即可,取放樣品方便
  另配備有可調節高度的法蘭支架

 

 

 

 

 

五路質子流量控制系統

MFC-5Z

 

電壓

 220VAC  單相  50/60Hz

針閥材質

 316不銹鋼

量程

 50sccm、100sccm、500sccm、500sccm、500sccm(可根據工藝要求提供多種量程選擇)

工作溫度

 5~45℃

外型尺寸

 600(L) x 600(W) x 700(H) mm

電壓

 AC220V/50Hz單相

功率

 23W

 

 

 

 

真空系統

LVU-10

殼體尺寸

     600 (L) x 600 (W) x 700(H)mm

zui大承載量

     1000 Lbs 

抽氣速率

      10m³/h

    極限真空度:10-1Pa

    雙層立式油污過濾器(PE材質)與真空泵連接

質保期

一年質保期,相關耗材除外,如爐管,密封圈加熱元件等易耗件

 

 

 

 

使用注意事項

     爐管內氣壓不可高于0.02MPa     

    當爐體溫度高于1000℃時,爐管內不可處于真空狀態,爐管內的氣壓需和大氣壓相當,保持在常壓狀態進入爐管的氣體流量需小于200SCCM,以避免冷的大氣流對加熱石英管的沖擊

    石英管的長時間使用溫度<1100℃

    對于樣品加熱的實驗,不建議關閉爐管法蘭端的抽氣閥和進氣閥使用。若需要關閉氣閥對樣品加熱,則需時刻關注壓力表的示數,若氣壓表示數大于0.02MPa,必須立刻打開泄氣閥,以防意外發生(如爐管破裂,法蘭飛出等)

 

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